(N/A) તટસ્થ ઓક્સાઈડ: $CO$
એસિડિક ઓક્સાઈડ: $B_2O_3, SiO_2, CO_2$
ઉભયગુણી ઓક્સાઈડ: $Al_2O_3, PbO_2$
બેઝિક ઓક્સાઈડ: $Tl_2O_3$
$(b)$ $(i)$ એસિડિક ઓક્સાઈડ $(B_2O_3, SiO_2, CO_2)$ બેઝ સાથે પ્રક્રિયા કરે છે:
$B_2O_3 + 2 NaOH \rightarrow 2 NaBO_2 + H_2O$
$SiO_2 + 2 NaOH \rightarrow Na_2SiO_3 + H_2O$
$CO_2 + 2 NaOH \rightarrow Na_2CO_3 + H_2O$
$(ii)$ ઉભયગુણી ઓક્સાઈડ $(Al_2O_3, PbO_2)$ એસિડ અને બેઝ બંને સાથે પ્રક્રિયા કરે છે:
$Al_2O_3 + 2 NaOH \rightarrow 2 NaAlO_2 + H_2O$
$Al_2O_3 + 3 H_2SO_4 \rightarrow Al_2(SO_4)_3 + 3 H_2O$
$PbO_2 + 2 NaOH \rightarrow Na_2PbO_3 + H_2O$
$(iii)$ બેઝિક ઓક્સાઈડ $(Tl_2O_3)$ એસિડ સાથે પ્રક્રિયા કરે છે:
$Tl_2O_3 + 6 HCl \rightarrow 2 TlCl_3 + 3 H_2O$