$M^{2+}/M$ मानक इलेक्ट्रोड विभव में प्रवृत्तियों की व्याख्या कीजिए।

(N/A) जलीय माध्यम में $M^{2+}$ आयनों की स्थिरता तीन कारकों पर निर्भर करती है:
$(i)$ परमाणुकणन की एन्थैल्पी
$(ii)$ प्रथम और द्वितीय आयनन एन्थैल्पी का योग
$(iii)$ जलयोजन एन्थैल्पी
जलीय माध्यम में $M^{2+}$ अवस्था में एक तत्व अधिक स्थिर होता है यदि इलेक्ट्रोड विभव $(M^{2+}/M)$ का मान अधिक ऋणात्मक हो। आवर्त में आगे बढ़ने पर,$M^{2+}$ आयन बनाने की प्रवृत्ति सामान्यतः घटती है।
कॉपर को छोड़कर,प्रथम संक्रमण श्रेणी के सभी तत्व इलेक्ट्रोड विभव के ऋणात्मक मान प्रदर्शित करते हैं। कॉपर का असाधारण व्यवहार उसकी उच्च परमाणुकणन एन्थैल्पी और प्रथम तथा द्वितीय आयनन एन्थैल्पी के बहुत उच्च योग के कारण है,जिसकी भरपाई उसकी जलयोजन एन्थैल्पी $(Cu^{2+})$ द्वारा नहीं हो पाती है।
अपने धनात्मक इलेक्ट्रोड विभव के कारण,कॉपर तनु अम्लों से हाइड्रोजन गैस मुक्त नहीं करता है और केवल नाइट्रिक एसिड और गर्म सांद्र सल्फ्यूरिक एसिड जैसे ऑक्सीकरण अम्लों के साथ प्रतिक्रिया करता है।
$Mn$,$Ni$ और $Zn$ के इलेक्ट्रोड विभव अपेक्षा से अधिक ऋणात्मक हैं। $Mn$ और $Zn$ के इलेक्ट्रोड विभव के मान उनके स्थिर इलेक्ट्रॉनिक विन्यास ( $Mn^{2+}$ के लिए अर्ध-पूर्ण $d^5$ और $Zn^{2+}$ के लिए पूर्ण-भरे $d^{10}$ ) के कारण कम हो जाते हैं,जबकि $Ni$ अपनी उच्च जलयोजन एन्थैल्पी के कारण असाधारण रूप से अधिक ऋणात्मक इलेक्ट्रोड विभव रखता है।