નીચેનામાંથી કઈ ઇલેક્ટ્રોન રચનામાં ઇલેક્ટ્રોનને દૂર કરવા માટે સૌથી વધુ ઉર્જાનું શોષણ થશે?

હાઇડ્રોજનની આયનીકરણ ઉર્જા કેટલી છે?

નીચે બે વિધાનો આપેલા છે: એકને વિધાન $A$ તરીકે અને બીજાને કારણ $R$ તરીકે લેબલ કરવામાં આવ્યું છે.
વિધાન $A$: $O$ ની પ્રથમ આયનીકરણ એન્થાલ્પી $N$ અને $F$ કરતા ઓછી છે.
કારણ $R$: $O$ માંથી ઇલેક્ટ્રોન દૂર થવાથી સ્થાયી અર્ધ-પૂર્ણ $p$ કક્ષક પ્રાપ્ત થાય છે.
ઉપરોક્ત વિધાનોના પ્રકાશમાં, નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સૌથી યોગ્ય જવાબ પસંદ કરો:

$C$,$N$ અને $F$ ની પ્રથમ આયનીકરણ એન્થાલ્પી અનુક્રમે $1086$,$1402$ અને $1681 \, kJ \, mol^{-1}$ છે. તો ઓક્સિજન $(O)$ ની પ્રથમ આયનીકરણ એન્થાલ્પી $1310$ અથવા $1510 \, kJ \, mol^{-1}$ માંથી કઈ હોવાની શક્યતા સૌથી વધુ છે?

તત્વોની બીજી આયનીકરણ એન્થાલ્પી હંમેશા પ્રથમ આયનીકરણ એન્થાલ્પી કરતા વધારે હોય છે કારણ કે:

આલ્કલાઈન અર્થ ધાતુઓની પ્રથમ આયનીકરણ ઉર્જા આલ્કલી ધાતુઓ કરતા વધારે હોય છે. આનું કારણ...