નીચેની પ્રક્રિયાની મુખ્ય નીપજ ઓળખો:

નીચે બે વિધાનો આપેલા છે: એકને વિધાન $A$ તરીકે અને બીજાને કારણ $R$ તરીકે લેબલ કરવામાં આવ્યું છે:
વિધાન $A$: એસિટલ/કીટલ બેઝિક માધ્યમમાં સ્થાયી છે.
કારણ $R$: આલ્કોક્સાઇડ આયનની ઊંચી લિવિંગ ટેન્ડન્સી (મુક્ત થવાની વૃત્તિ) બેઝિક માધ્યમમાં એસિટલ/કીટલને સ્થિરતા આપે છે.
ઉપરોક્ત વિધાનોના પ્રકાશમાં,નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સાચો જવાબ પસંદ કરો:

નીચેની પ્રક્રિયામાં,$C_6H_5CN$ $\xrightarrow[(ii) H_3O^+]{(i) SnCl_2/HCl} X$ $\xrightarrow{Dil. NaOH} Y$. અહીં,$X$ અને $Y$ શું છે?

નીચેની પ્રતિક્રિયાઓની શ્રેણીના અંતિમ ઉત્પાદનો છે:

જ્યારે આલ્ડિહાઈડ $(R-CHO)$ ની પ્રક્રિયા ટોલેન્સ પ્રક્રિયક સાથે કરવામાં આવે ત્યારે કઈ નીપજો બને છે?

નીપજ $(B)$ શું છે?