સ્પેક્ટ્રોકેમિકલ શ્રેણીમાં, લિગાન્ડ્સ $Cl^{-}$, $OH^{-}$, અને $CN^{-}$ દ્વારા રોકાયેલ સ્થાનો તેમની સ્પ્લિટિંગ પાવરના વધતા ક્રમમાં કયા છે?
- A$Cl^{-}, CN^{-}, OH^{-}$
- B$Cl^{-}, OH^{-}, CN^{-}$
- C$CN^{-}, OH^{-}, Cl^{-}$
- D$CN^{-}, Cl^{-}, OH^{-}$
Explore More
Similar Questions
સ્પેક્ટ્રોકેમિકલ શ્રેણી મુજબ લિગાન્ડ્સની ફિલ્ડ સ્ટ્રેન્થ (ક્ષેત્ર પ્રબળતા) માટે નીચેનામાંથી કયો ક્રમ સાચો છે?
નીચેના $Cr(III)$ સંકીર્ણોમાંથી,કોની અષ્ટફલકીય સ્ફટિક ક્ષેત્ર વિભાજન (octahedral crystal field splitting) સૌથી વધુ હશે?
સમાન લિગાન્ડ્સ દ્વારા ઉદ્ભવતા ઓક્ટાહેડ્રલ $(\Delta_0)$ અને ટેટ્રાહેડ્રલ $(\Delta_t)$ ભૂમિતિ માટે ક્રિસ્ટલ ફિલ્ડ સ્પ્લિટિંગ ઊર્જા નીચેનામાંથી કયા સંબંધ દ્વારા જોડાયેલ છે?
$[Co(NH_3)_6]Cl_3$ ની સ્ફટિક ક્ષેત્ર સ્થિરીકરણ ઉર્જા $......... \Delta_0$ છે.
Medium
View Solutionલિગાન્ડ્સનો વધતી જતી ક્ષેત્ર પ્રબળતા (field strength) મુજબનો સાચો ક્રમ કયો છે?
Vedclass Products
For Students
Vedclass Test Series
Mock tests in real JEE/NEET style with performance analysis. 5-day free trial.
Start Free TrialFor Teachers
Exam Paper Generator
Generate Set A/B/C/D exam papers from 7.5L+ questions in 2 minutes. 3 chapters free.
Try FreeFor Institutes
Online Exam Module
Live online exams with unlimited students, 360° analytics & white-label branding.
See Demo