आर्गन लेजर द्वारा उत्पन्न $488 \, nm$ तरंगदैर्ध्य वाले प्रकाश का उपयोग प्रकाश-विद्युत प्रभाव में किया जाता है। जब इस स्पेक्ट्रल लाइन का प्रकाश कैथोड पर आपतित होता है, तो फोटोइलेक्ट्रॉन का निरोधी विभव (stopping potential) $0.38 \, V$ होता है। कैथोड पदार्थ का कार्य फलन (work function) है ($ \, eV$ में)

मर्करी लैंप फोटोइलेक्ट्रिक उत्सर्जन की आवृत्ति पर निर्भरता का अध्ययन करने के लिए एक सुविधाजनक स्रोत है,क्योंकि यह $UV$ से दृश्य स्पेक्ट्रम के लाल छोर तक कई स्पेक्ट्रल रेखाएं प्रदान करता है। रूबिडियम फोटोसेल के साथ हमारे प्रयोग में,मर्करी स्रोत की निम्नलिखित रेखाओं का उपयोग किया गया था:
$\lambda_1 = 3650 \,\mathring{A}, \lambda_2 = 4047 \,\mathring{A}, \lambda_3 = 4358 \,\mathring{A}, \lambda_4 = 5461 \,\mathring{A}, \lambda_5 = 6907 \,\mathring{A}$
उनके संबंधित स्टॉपिंग वोल्टेज इस प्रकार मापे गए थे:
$V_{01} = 1.28 \,V, V_{02} = 0.95 \,V, V_{03} = 0.74 \,V, V_{04} = 0.16 \,V, V_{05} = 0 \,V$
प्लांक नियतांक $h$,देहली आवृत्ति (threshold frequency) और पदार्थ के लिए कार्य फलन (work function) का मान ज्ञात कीजिए।

दी गई सतह के लिए,आपतित प्रकाश की आवृत्ति और निरोधी विभव (stopping potential) के बीच खींचे गए ग्राफ की ढाल (slope) ....... होगी।

एक प्रकाश-विद्युत प्रयोग में,$Y$-अक्ष पर निरोधी विभव (stopping potential) और $X$-अक्ष पर आपतित प्रकाश की आवृत्ति को लेकर एक ग्राफ खींचा जाता है। यदि ग्राफ एक सीधी रेखा है जो $Y$-अक्ष के साथ $\theta$ कोण बनाती है,तो $\tan \theta=$ ($h$-प्लांक नियतांक,$e$-इलेक्ट्रॉन का आवेश)।

धातु $A$ और $B$ के कार्य फलन (work function) का अनुपात $1 : 2$ है। यदि $f$ और $2f$ आवृत्ति का प्रकाश क्रमशः $A$ और $B$ की सतहों पर आपतित होता है,तो उत्सर्जित फोटोइलेक्ट्रॉन की अधिकतम गतिज ऊर्जा का अनुपात क्या होगा? ($f$ और $2f$ दोनों आवृत्तियाँ धातु $A$ और $B$ की देहली आवृत्ति (threshold frequency) से अधिक हैं)।

फोटोइलेक्ट्रॉन की ऊर्जा किन कारकों पर निर्भर करती है?