કોની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી (electron affinity) મહત્તમ છે?

નીચેનામાંથી કોની ઇલેક્ટ્રોન એફિનિટી $(EA)$ સૌથી વધુ છે?

ઓક્સિજન પરમાણુમાંથી ઓક્સાઇડ આયન,$O^{2-}_{(g)}$ ની રચના માટે નીચે દર્શાવ્યા મુજબ પ્રથમ ઉષ્માક્ષેપક અને ત્યારબાદ ઉષ્માશોષક તબક્કાની જરૂર પડે છે:
$O_{(g)} + e^- \to O^{-}_{(g)} ; \Delta_f H^o = -141 \ kJ \ mol^{-1}$
$O^{-}_{(g)} + e^- \to O^{2-}_{(g)} ; \Delta_f H^o = +780 \ kJ \ mol^{-1}$
આમ,વાયુ અવસ્થામાં $O^{2-}$ બનવાની પ્રક્રિયા પ્રતિકૂળ છે,ભલે $O^{2-}$ એ નિયોન સાથે આઇસોઇલેક્ટ્રોનિક હોય. આનું કારણ એ છે કે,

તત્વો $A, B, C$ અને $D$ ની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી (electron affinity) ના મૂલ્યો અનુક્રમે $-135, -60, -200$ અને $-348 \ kJ \ mol^{-1}$ છે. તત્વ $B$ ની બાહ્યતમ ઇલેક્ટ્રોનિક રચના શું છે?

નીચેનામાંથી કઈ પ્રક્રિયામાં સૌથી ઓછી ઉર્જાની જરૂર પડે છે?

$Be, B, C, N$ તત્વો માટે ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી (ઇલેક્ટ્રોન બંધુતા) નો સાચો ક્રમ જણાવો.