$E$ ऊर्जा का एक फोटॉन $W_0$ कार्यफलन वाली धातु की सतह से एक फोटोइलेक्ट्रॉन उत्सर्जित करता है। यदि यह इलेक्ट्रॉन $B$ चुंबकीय क्षेत्र में क्षेत्र के लंबवत दिशा में प्रवेश करता है और $r$ त्रिज्या का एक वृत्ताकार पथ बनाता है,तो त्रिज्या $r$ का मान क्या होगा? (सामान्य संकेतों में)

जब $\nu$ आवृत्ति का प्रकाश $\phi$ कार्य फलन वाली एक प्रकाश-संवेदी सामग्री पर आपतित होता है,तो उत्सर्जित प्रकाशिक इलेक्ट्रॉनों की अधिकतम गतिज ऊर्जा $E$ होती है। यदि आपतित प्रकाश की आवृत्ति $3\nu$ है,तो उत्सर्जित प्रकाशिक इलेक्ट्रॉनों की अधिकतम गतिज ऊर्जा क्या होगी?

दो समान फोटोकैथोड $n_1$ और $n_2$ आवृत्ति का प्रकाश प्राप्त करते हैं। यदि $m$ द्रव्यमान वाले उत्सर्जित फोटोइलेक्ट्रॉन का वेग क्रमशः $V_1$ और $V_2$ है,तो ($h=$ प्लांक नियतांक):

एक प्रकाश-संवेदनशील धातु की सतह का कार्य फलन (work function) $1.1 \ eV$ है। $1.5 \ eV$ और $2 \ eV$ ऊर्जा वाली प्रकाश की दो किरणें धातु की सतह पर आपतित होती हैं। उत्सर्जित फोटोइलेक्ट्रॉनों के अधिकतम वेग का अनुपात क्या है?

एक धातु की सतह को पहले $\lambda_1 = 350 \ nm$ तरंगदैर्ध्य के प्रकाश से और फिर $\lambda_2 = 540 \ nm$ तरंगदैर्ध्य के प्रकाश से प्रकाशित किया जाता है। यह पाया गया है कि दोनों स्थितियों में फोटोइलेक्ट्रॉन की अधिकतम गति $2$ के गुणक से भिन्न है। धातु का कार्य फलन ($eV$ में) लगभग है: (फोटॉन की ऊर्जा $= \frac{1240}{\lambda \text{ (} nm \text{ में)}} \ eV$)

$1 \,W$ शक्ति के बिंदु स्रोत से $1 \,m$ की दूरी पर एक कोबाल्ट $(Co)$ प्लेट रखी गई है। मान लीजिए कि प्लेट का $r = 1 \,Å$ त्रिज्या वाला एक वृत्ताकार क्षेत्र विकिरण के संपर्क में है और फोटो-इलेक्ट्रॉन उत्सर्जित करता है। प्रकाश ऊर्जा को समान रूप से फैला हुआ माना जाता है और कोबाल्ट का कार्य फलन (work function) $5 \,eV$ है। फोटो-इलेक्ट्रॉन उत्सर्जित करने के लिए लक्ष्य को प्रकाश स्रोत के संपर्क में कितने न्यूनतम समय के लिए रखा जाना चाहिए (यह मानते हुए कि कोई परावर्तन हानि नहीं है) ($\,s$ में)?