$1 \,W$ शक्ति के बिंदु स्रोत से $1 \,m$ की दूरी पर एक कोबाल्ट $(Co)$ प्लेट रखी गई है। मान लीजिए कि प्लेट का $r = 1 \,Å$ त्रिज्या वाला एक वृत्ताकार क्षेत्र विकिरण के संपर्क में है और फोटो-इलेक्ट्रॉन उत्सर्जित करता है। प्रकाश ऊर्जा को समान रूप से फैला हुआ माना जाता है और कोबाल्ट का कार्य फलन (work function) $5 \,eV$ है। फोटो-इलेक्ट्रॉन उत्सर्जित करने के लिए लक्ष्य को प्रकाश स्रोत के संपर्क में कितने न्यूनतम समय के लिए रखा जाना चाहिए (यह मानते हुए कि कोई परावर्तन हानि नहीं है) ($\,s$ में)?

  • A
    $320$
  • B
    $450$
  • C
    $860$
  • D
    $100$

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एक धातु की देहली आवृत्ति (threshold frequency) $F_0$ है। जब $2F_0$ आवृत्ति का प्रकाश धातु की प्लेट पर आपतित होता है,तो फोटोइलेक्ट्रॉन का अधिकतम वेग $V_1$ है। जब आपतित विकिरण की आवृत्ति को बढ़ाकर $5F_0$ कर दिया जाता है,तो उत्सर्जित फोटोइलेक्ट्रॉन का अधिकतम वेग $V_2$ है। $V_1$ और $V_2$ का अनुपात क्या है?

एक चांदी की गेंद को निर्वात कक्ष में एक धागे से लटकाया गया है और उस पर $200 \ nm$ तरंगदैर्ध्य का पराबैंगनी प्रकाश आपतित होता है। यदि चांदी का कार्य फलन $4.7 \ eV$ है,तो गेंद द्वारा प्राप्त अधिकतम विभव .............. $V$ होगा।

एक धात्विक सतह पर आपतित प्रकाश की आवृत्तियों $v_1$ और $v_2$ $(v_1 > v_2)$ के लिए प्रकाश-विद्युत उत्सर्जन देखा जाता है। यदि दोनों स्थितियों में उत्सर्जित फोटोइलेक्ट्रॉन की अधिकतम गतिज ऊर्जा का अनुपात $1:k$ है, तो धात्विक सतह की देहली आवृत्ति (threshold frequency) क्या है?

किसी धातु से प्रकाश-विद्युत उत्सर्जन के लिए कट-ऑफ आवृत्ति $\nu$ है। यदि $2\nu$ आवृत्ति का विकिरण धातु की प्लेट पर आपतित होता है,तो उत्सर्जित इलेक्ट्रॉन का अधिकतम संभव वेग क्या होगा? ($m$ इलेक्ट्रॉन का द्रव्यमान है)

जब $1.24 eV$ कार्य फलन वाली एक लक्ष्य सामग्री को $4.36 \times 10^{-7} m$ तरंगदैर्ध्य के प्रकाश से विकिरणित किया जाता है,तो फोटोइलेक्ट्रॉनों के उत्सर्जन को रोकने के लिए आवश्यक मंदक विभव (retarding potential) क्या है ($eV$ में)?

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