हेस के नियम के अनुसार,अभिक्रिया की ऊष्मा किस पर निर्भर करती है?

एक इलेक्ट्रॉन जो $V$ विभवांतर से त्वरित होता है,एक समान अनुप्रस्थ चुंबकीय क्षेत्र से गुजरता है और $F$ बल का अनुभव करता है। यदि त्वरित विभव को बढ़ाकर $2V$ कर दिया जाए,तो उसी चुंबकीय क्षेत्र में इलेक्ट्रॉन कितना बल अनुभव करेगा?

शुक्राणु के एक्रोसोम में होता है:

यदि एक गोले का आयतन $2 \pi \text{ cm}^3/\text{s}$ की दर से बढ़ रहा है, तो उसकी त्रिज्या के बढ़ने की दर ($\text{cm/s}$ में), जब आयतन $288 \pi \text{ cm}^3$ है, क्या होगी?

निम्नलिखित का मिलान करें:
| Column $I$ | Column $II$ |
| :--- | :--- |
| $A$. हुक का नियम | $1$. स्पर्शरेखीय विकृति (Tangential strain) |
| $B$. अपरूपण विकृति (Shearing strain) | $2$. प्रत्यास्थ गुण का अस्थायी नुकसान |
| $C$. आयतन विकृति (Bulk strain) | $3$. प्रत्यास्थ सीमा |
| $D$. प्रत्यास्थ थकान (Elastic fatigue) | $4$. रैखिक विकृति का $3$ गुना |

जब एक स्प्रिंग को $2 \ cm$ खींचा जाता है,तो यह $100 \ J$ ऊर्जा संग्रहीत करती है। यदि इसे $2 \ cm$ और खींचा जाए,तो संग्रहीत ऊर्जा में ............. $J$ की वृद्धि होगी।