एक निश्चित धातु से देहली आवृत्ति $v$ पर प्रकाश-विद्युत उत्सर्जन होता है। यदि $4v$ आवृत्ति का विकिरण धातु की प्लेट पर आपतित होता है,तो उत्सर्जित प्रकाश-इलेक्ट्रॉनों का अधिकतम वेग क्या होगा? ($m=$ प्रकाश-इलेक्ट्रॉन का द्रव्यमान,$h=$ प्लांक नियतांक)

$\lambda$ तरंगदैर्ध्य वाले फोटॉन की ऊर्जा $2 \ eV$ है। जब यह धातु की सतह पर आपतित होता है,तो उत्सर्जित फोटो-इलेक्ट्रॉन का अधिकतम वेग $v$ है। यदि $\lambda$ का मान $25\%$ कम कर दिया जाए और अधिकतम वेग को दोगुना कर दिया जाए,तो धातु का कार्य फलन (work function) ...... $eV$ हो जाएगा।

प्रकाश-विद्युत प्रभाव के एक प्रयोग में,$f$ धातु की सतह पर आपतित विकिरणों की आवृत्ति है और $I$ आपतित विकिरणों की तीव्रता है। निम्नलिखित कथनों पर विचार करें। कौन से कथन सही हैं?
$(A)$ यदि $I$ और कार्य फलन (work function) को स्थिर रखकर $f$ को बढ़ाया जाता है,तो फोटोइलेक्ट्रॉन की अधिकतम गतिज ऊर्जा बढ़ जाती है।
$(B)$ यदि कैथोड और एनोड के बीच की दूरी बढ़ाई जाती है,तो निरोधी विभव (stopping potential) बढ़ जाता है।
$(C)$ यदि $f$ और कार्य फलन को स्थिर रखकर $I$ को बढ़ाया जाता है,तो निरोधी विभव समान रहता है और संतृप्ति धारा (saturation current) बढ़ जाती है।
$(D)$ यदि $f$ और $I$ को स्थिर रखकर कार्य फलन को घटाया जाता है,तो निरोधी विभव बढ़ जाता है।

निम्नलिखित ग्राफ एक दी गई धातु के लिए आपतित विकिरण की आवृत्ति $(f)$ के अनुरूप निरोधी विभव $(V_s)$ में परिवर्तन को दर्शाते हैं। सही परिवर्तन किस ग्राफ में दिखाया गया है ($f_0 =$ देहली आवृत्ति):

आकृति चार अलग-अलग विकिरणों के लिए एनोड विभव के साथ फोटोकरंट में परिवर्तन को दर्शाती है। मान लीजिए कि $f_a$,$f_b$,$f_c$ और $f_d$ क्रमशः वक्र $a$,$b$,$c$ और $d$ के लिए आवृत्तियाँ हैं।

एक धातु का कार्य फलन (work function) $1 \ eV$ है। यदि इस धातु की सतह पर $3000 \ \mathring{A}$ तरंगदैर्ध्य का प्रकाश आपतित किया जाता है, तो उत्सर्जित फोटोइलेक्ट्रॉन का अधिकतम वेग ........ है।