जब एक निकाय को अवस्था $i$ से अवस्था $f$ तक पथ $iaf$ के अनुदिश ले जाया जाता है,तो $Q = 50 \ J$ और $W = 20 \ J$ होता है। पथ $ibf$ के लिए $Q = 35 \ J$ और $W = -13 \ J$ है। तो वक्र पथ $fi$ के लिए $Q = \dots \ J$ होगा।

हीलियम गैस चित्र में दिखाए अनुसार $ABCDA$ चक्र (जो दो समआयतनिक और दो समदाबी रेखाओं से बना है) से गुजरती है। इस चक्र की दक्षता लगभग ....... $\%$ है (मान लें कि गैस एक आदर्श गैस है)।

$V-T$ आरेख में एक चक्रीय प्रक्रिया $ABCA$ दिखाई गई है। $P-V$ आरेख पर प्रक्रिया है:

एक आदर्श गैस आयतन $V_1$ से आयतन $V_2$ तक समतापीय रूप से प्रसारित होती है। इसके बाद इसे रुद्धोष्म (adiabatic) रूप से मूल आयतन $V_1$ तक संकुचित किया जाता है। यदि $p_1$ और $p_2$ क्रमशः प्रारंभिक दाब और अंतिम दाब को दर्शाते हैं, और $W$ पूरी प्रक्रिया के दौरान गैस द्वारा किया गया कुल कार्य है, तो:

कार्बन मोनोऑक्साइड को बंद चक्र $abc$ पर ले जाया जाता है। चित्र में दिखाए अनुसार प्रक्रिया $bc$ समतापीय है। जब गैस का तापमान $300 \ K$ से $1000 \ K$ तक बढ़ाया जाता है,तो यह $a$ से $b$ तक जाने में $7000 \ J$ ऊष्मा अवशोषित करती है। प्रक्रिया $ca$ के दौरान गैस द्वारा मुक्त की गई ऊष्मा ...... $J$ है।

एक गैस अवस्था परिवर्तन से गुजरती है जिसके दौरान उसे $100 \ J$ ऊष्मा दी जाती है और वह $20 \ J$ कार्य करती है। निकाय को एक ऐसी प्रक्रिया के माध्यम से उसकी मूल अवस्था में वापस लाया जाता है जिसके दौरान गैस द्वारा $20 \ J$ ऊष्मा मुक्त की जाती है। दूसरी प्रक्रिया में गैस द्वारा किया गया कार्य ....... $J$ है।